vacuum deposition
არსებითი სახელი
/͵vækjʊəm͵dɛpəʹzɪʃn/
ქართულად | რუსულად
ვაკუუმური დალექვა, ვაკუუმური დაფარვა (ზედაპირული ფენის დადება ვაკუუმში მფარავი ნივთიერების ორთქლის ნიმუშის ზედაპირზე ფიზიკური დალექვით ან ორთქლის ზედაპირთან ქიმიური რეაქციის შედეგად; აგრ. vapour deposition).